UPW-HiDB超純水拋光除硼系統

應用對象：集成電路與硅片產業對硼要求極高的超純水處理系統

關鍵技術：除硼樹脂、拋光樹脂、除硼陰床

技術優勢：

1）硼選擇樹脂含有多羥基官能團，對于硼酸具有高選擇性；

2）雙層床的設計及后置的TOC-UV解決除硼樹脂TOC溶出的問題；

3）產水B濃度 < 10 ppt，TOC < 2 ppb。